CN⇄US
848620 氧化、扩散、退火及其他热处理设备
🇨🇳 中国 13 个10位编码 🇺🇸 美国 1 个HTS编码
🔗 HS 编码前 6 位由世界海关组织（WCO）统一制定，全球通用； 第 7-10 位由各国自行细分。本页为同一 6 位编码下中美两国的完整税则对照。
🇨🇳 中国海关编码（10位）
8486201000 退税 13%
氧化、扩散、退火及其他热处理设备
8486202100 退税 13%
制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
8486202200 退税 13%
制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置
8486202900 退税 13%
其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备
8486203110 退税 13%
制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机
8486203120 退税 13%
制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机
8486203130 退税 13%
制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机
8486203190 退税 13%
其他制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机
8486203910 退税 13%
制造半导体器件或集成电路用的 I 线光刻机
8486203920 退税 13%
制造半导体器件或集成电路用的氟化氪( KrF )光刻机
8486203930 退税 13%
制造半导体器件或集成电路用的氟化氩( ArF )光刻机
8486203940 退税 13%
制造半导体器件或集成电路用的氟化氩浸没式( ArFi )光刻机
8486203950 退税 13%
制造半导体器件或集成电路用的极紫外( EUV )光刻机
🇺🇸 美国 HTSUS 编码
8486200000 G Free C2 35%
Machines and apparatus for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuits
G = General Rate（普通税率/MFN）；C2 = Column 2（第二栏税率，适用于非最惠国待遇国家）。来源：USITC hts.usitc.gov。
中国数据依据中华人民共和国海关总署现行公告；美国数据依据 USITC HTSUS（hts.usitc.gov）。
本页仅为同一国际通用 6 位 HS 编码下的两国税则并列展示，不代表 10 位编码间存在一一对应关系；实际归类请以两国海关认定为准。